一种用于钼的化学蚀刻溶液配方及方法

化学蚀刻是通过化学反应利用化学溶液的腐蚀作用将不需要的金属快速溶解除掉的过程。化学蚀刻的基本流程是：将初始金属件进行常规的清洗和除油使表面清洁，进而在其表面涂覆光刻胶，并按照加工图样进行光刻胶的曝光，而后进行显影和坚膜处理，再利用化学蚀刻溶液腐蚀暴露的金属，待腐蚀过程结束后，再将表面的胶用强碱性溶液去掉，最后用水清洗干净得到蚀刻加工工件产品。目前已有的化学蚀刻溶液主要是针对不锈钢、铜、镍等金属微细加工的化学蚀刻溶液，而对于钼的化学蚀刻溶液尚未见报道。由于金属钼具有高耐蚀性、耐高温性、高导电性和高耐磨性，其作为特种功能材料的使用极为广泛，但由于其高硬度难于机械加工微细结构，而目前涉及微细加工的要求正逐渐增多，为此用于钼的化学蚀刻溶液的需求也日益紧迫。

华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项一种用于钼的化学蚀刻溶液配方及方法，该技术的蚀刻溶液可在常温下使用，具有腐蚀速度快，侧蚀小，溶液使用寿命长和加工成本低等优点，即使在静止溶液中也可实现钼的快速蚀刻，现将该一种用于钼的化学蚀刻溶液配方及方法及技术方案实施例介绍如下供研究交流参考：（611511  373436）

该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，鉴于技术配方的特殊性不接受退款，请根据需要斟酌后支付，谢谢。